硅碳CVD
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硅碳CVD、乙炔包覆回转炉

专业用于硅碳负极CVD气相沉积工艺。

选件:
产品特点

1、烧结周期短:动态烧结方式,热传导速度快,大大缩短烧结周期,相对能耗优于其他炉型;

2、物料品质均匀:物料在炉内的运动状态为动态的前进和翻转,受热均匀,确保了物料充分烧结,物料品质一致性好;

3、单机产能可扩产:较大单机产能,且易于实现规模放大,单台设备产能可达5-200kg/批,且有实现连续化生产的可能;

4、安全系数高:炉内微正压,排气结构简单,可有效泄压,安全性能相对较高。

 

产品详情
额定温度 控温精度 烧结气氛 生产方式 单次处理量
600℃ ±1℃ 氮气,硅烷,乙炔 间歇式、连续式 5-200kg/批
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